Φωτοβολταϊκά Thin Film στην Ελλάδα

Φωτοβολταϊκά Thin Film σε κατοικία

Στην προηγούμενη ανάρτηση αναφέρθηκα στα φωτοβολταϊκά τύπου thin film και τη δυναμική που φαίνετια να εμφανίζουν. Αυτό που δεν ξέρουν πολλοί είναι ότι εργοστάσιο παραγωγής φωτοβολταϊκών πάνελ με αυτή την τεχνολογία κατασκευάζεται στην Ελλάδα.

Σε πλήρη εξέλιξη βρίσκονται τα σχέδια της Next Solar για την κατασκευή της μονάδας παραγωγής φ/β πάνελ τεχνολογίας thin film στην Τρίπολη. Βασικοί μέτοχοι της Next Solar είναι το αμερικανικό fund Plainfield Asset Management, η Sciens (Τράπεζα Πειραιώς) και ο επιχειρηματίας Γ. Φακίδης.

Σύμφωνα με τον προγραμματισμό η ετήσια παραγωγική ικανότητα της νέας μονάδας που κατασκευάζεται στη ΒΙΠΕ Τρίπολης θα είναι 60 MWp (2010). αν και στην αρχή θα είναι 30 MW. Οι εργασίες εξελίσσονται κανονικά όπως προβλέπεται στο πρόγραμμα και η μονάδα θα ξεκινήσει τη λειτουργία της τον ερχόμενο Απρίλιο.

Η κατασκευή της μονάδας θα κοστίσει 180 εκατ. ευρώ και χρηματοδοτείται πλήρως από ιδιωτικά κεφάλαια αν και έχει γίνει και αίτηση για χρηματοδότηση από τον αναπτυξιακό νόμο (για 21% του έργου). Το εργοστάσιο κατασκευάζεται στη ΒΙΠΕ Τρίπολης και αναμένεται να φτάσει σε full capacity των 60MW μέχρι το 2010. Τότε θα παράγονται 500 χιλιάδες πάνελ, ενώ ο αναμενόμενος τζίρος θα είναι 140 εκ. ευρώ.

Η μονάδα στην Τρίπολη θα παράγει πάνελ με την τεχνολογία thin film, η οποία αναπτύσσεται με ραγδαίο ρυθμό παγκοσμίως με μεγάλο πλεονέκτημα ότι έχει χαμηλότερο κόστος καθώς χρησιμοποιεί πολύ μικρότερες ποσότητες πολυσιλικόνης σε αντίθεση με τα κρυσταλλικά πάνελ. Σήμερα η τεχνολογία thin film αντιστοιχεί στο 10% της παγκόσμιας παραγωγής φ/β πάνελ, και μέσα στα επόμενα τρία με πέντε χρόνια ανανμένεται να φτάσει το 20 με 30%.

Τα φωτοβολταϊκά θα παράγονται με την τεχνολογία της εταιρίας Oerlikon (micromorph technology). Το εργοστάσιο θα έχει μια πλήρη αυτοματοποιημένη γραμμή παραγωγής που θα χρησιμοποιεί γυαλί σαν πρώτη ύλη (130cm x 110cm) και θα παράγει ένα πλήρες φωτοβολταϊκό πάνελ με την τεχνολογία Plasma Enchased Chemical Vapor Deposition (PECVD) όπου δύο στρώματα πυριτίου (micromorph και αμόρφου) αποτίθενται σε περιβάλλον πλασματος. Σημαντικό ρόλο παίζουν η καθαριότητα του χώρου παραγωγής (αριθμός και μέγεθος σωματιδίων, θερμοκρασία και υγρασία).